光谱样品制备

由于在过去几年中,在过去几年中,在过去几年中,散布分析的检测限改善以及OES和XRF设备的快速发展和改进,因此,金属和材料的光谱样品制备变得越来越重要。对于正确准备的样品至关重要。样品需要代表性,均匀和均匀的表面,以消除可能影响结果的因素。

光发射光谱法(OES)和X射线荧光(XRF)

使用电弧和火花激发的光发射光谱法(OES)是确定金属样品的化学成分的优选方法。该过程广泛应用于金属制造行业,包括初级生产商,铸造件,压铸师和制造业。由于其快速的分析时间和精度,电弧/火花OES系统(Bruker,Thermofisher)在控制合金的加工方面最有效。该技术可用于生产周期的许多方面,包括对材料,金属加工,半成品和成品的质量控制以及许多需要金属材料的化学成分的许多其他应用。X射线荧光是确定样本中元素的最通用方法之一。该材料暴露于X射线,导致每个元素发射其独特的荧光X射线。随后的结果分析基于对具有给定化学成分的标准样品的比较。

样品需要代表性,均匀和均匀的表面,以消除能够影响结果的因素。为了制备固体金属样品,Kemet提供手动和自动样品制备机 - 从小型桌面盘面磨床到自动铣床。用kemet样品制备机器,您可以让自己准备好进行分析。

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